蔡司称EUV关键光学部件产能可满足AI需求并维持与ASML长期路线图

根據彭博社報導，德國蔡司集團（Zeiss Group）反駁市場對 AI 供應鏈瓶頸的疑慮，並表示有信心具備足夠產能，可因應持續攀升的需求。
蔡司半導體事業部上月宣布，已擴建位於德國奧伯科亨（Oberkochen）總部，以優化既有空間並提升生產能力。同時，公司也正於另一處蔡司園區興建新工廠，表示若市場需求持續增加，仍有擴產的空間。
蔡司半導體事業部負責人 Frank Rohmund 接受彭博訪問時表示，這些才是真正攸關產能擴充的長期投資。
蔡司為全球半導體設備龍頭 ASML 提供光學設備，而 ASML 是全球唯一能生產極紫外光（EUV）微影設備的公司。蔡司所生產的超高精度反射鏡需要數個月才能完成製造，是 EUV 設備不可或缺的核心零組件，可精準反射 EUV 光源，將極細微的電路圖案曝光到矽晶圓上，進而製造晶片。
透過與 ASML 的合作，蔡司表示，其零組件已參與全球約 80% 晶片的生產。Rohmund 預期，隨著超大規模雲端服務業者持續投入 AI 基礎建設，今年半導體事業將迎來顯著成長。
蔡司擁有近 180 年光學技術歷史，其鏡頭曾協助美國太空總署（NASA）拍攝人類首次登月畫面，如今產品涵蓋半導體零組件、醫療設備、顯微鏡及眼鏡鏡片等多元業務。
蔡司半導體事業於 1990 年代末與 ASML 建立合作關係，雙方共同推動晶片朝向更小、更強大且更節能的方向發展。蔡司表示，EUV 微影機內部的反射鏡調校精度極高，如果其中一面反射鏡將雷射光束反射至月球，它的精準度足以擊中月球表面的一顆乒乓球。根據 Rohmund 的說法，蔡司與 ASML 已共同制定一份相當長期的技術藍圖，目前已規劃到約 2040 年。
不過，美中貿易緊張局勢仍為雙方帶來風險。目前美國已禁止 ASML 向中國出口最先進的 EUV 微影設備，美國國會議員也推動將出口管制擴及 DUV 設備。由於蔡司也為 ASML 的 DUV 設備供應光學鏡頭，若新限制上路，其相關業務也可能受到影響。
知情人士透露，德國政府近期也一直在蒐集中國貿易流向、供應鏈及企業層級資料，以評估德國經濟對中國的依賴與潛在風險。報導稱，德國政府已將蔡司列為未來若與中國爆發貿易衝突時，可能運用的重要企業之一。
（首圖來源：蔡司）